ML-ETCH: Mikrostruktur- og mikroteksturetsing for buede overflater

Innen avanserte felt som halvledere, optiske instrumenter og biomedisinske enheter, utvikler produktinnovasjon seg til mikroskala. En viktig teknisk flaskehals for industriell oppgradering er å oppnå skadefri, høyeffektiv og høypresisjons 3D-mikrogravering på materialer med høyt smeltepunkt, høy hardhet og høy verdi. Monos ML-ETCH tilbyr løsningen.

Den integrerer egenutviklet femtosekundlaserteknologi av industriell kvalitet og avanserte bevegelseskontrollsystemer. Den maksimerer fordelen med "skadefri" prosessering og er spesielt utviklet for mikrostrukturforming og presisjonsetsing på flate og komplekse buede overflater. Den bryter gjennom material- og formbegrensninger, gjør komplekse mikrodesign til virkelighet og støtter produktinnovasjon sterkt.

❑ Mikrostrukturforming og etsing av buede overflater

❑ Uregelmessig mikrostruktur på lyslederplaten

❑ Etsing av spesialformede halvlederprober

❑ Danning av deflektormikrokanaler

❑ Ultrafin teksturbehandling