Kontakt
Leave Your Message

ML-NEBULA: FoU-utstyr for nanostruktur av femtosekundlaser med flere stråler

Ethvert vitenskapelig gjennombrudd stammer fra utfordringen med grenser. I mikron-, submikron- og til og med nanometer-verdenen definerer verktøyenes presisjon dybden av utforskningen. MONO hjelper enhver vitenskapsmann og ingeniør med å holde seg i forkant innen forskning, ved å bruke den mest avanserte femtosekundlaser-mikromaskineringsteknologien for å nøyaktig gjøre ideene dine til virkelighet.

ML-NEBULA er et flerdimensjonalt FoU-utstyr med femtosekundlaser og nanostruktur, spesielt utviklet for multifunksjonell og høypresisjons FoU. Det er et ideelt valg for vitenskapelige laboratorier og FoU-sentre som trenger å veksle mellom ulike oppgaver og søke ekstrem presisjon og fleksible løsninger. Utstyret tilbyr nanoskala mikromaskineringsmuligheter, fra overflatebehandling til intern direkteskriving, fra prototypeproduksjon til småskalaproduksjon – alt kan fullføres med én maskin.

❑ Fremstilling av funksjonell overflate-mikro-nanostruktur

❑ Direkte skriving av optisk bølgeleder

❑ Mikrofluidisk chipfabrikasjon

❑ Litografi med nanoskala linjebreddegitter

❑ Spaltemembran-/aperturmembranbehandling

    Produktfunksjoner

    • Tilpassbar femtosekundlaserkilde av industriell kvalitet (2)

      Støtter multioptisk bane og multifokus komposittbehandling;

    • Flerdimensjonale bjelkeformings- og kontrollfunksjoner

      Flerdimensjonal stråleforming og kontrollfunksjoner;

    • Sanntidsovervåking av strålepeking og kvalitet

      Stråleretningsevne og kvalitetsdeteksjon døgnet rundt;

    • Overlegen mekanisk og termisk stabil baseplattform

      Utmerket mekanisk og termisk stabilt utstyrsgrunnlag;

    • Høydynamisk respons, multifunksjonelt kontrollsystem

      Prosesseringspresisjon som dekker nano-, submikron- og mikronskalaer;

    • Fullstendig forseglet strålelevering og optisk banesystem

      Presis kontrollsystem for pulsenergi på nanojoule-nivå;

    • Koordinert flerakset presisjonsmaskinering for 3D-overflater

      Nanoskala posisjoneringsnøyaktighet;

    • Omfattende 3D-kollisjonsunngåelsessystem

      Presisjonsbehandling av flerakset kobling.

    Produkthøydepunkter

    bilde

    Funksjonell overflatemikro-nanostrukturforberedelse

    ❑ Brukes til å utvikle overflatemikro-nanostrukturer med spesielle optiske (som metallenser, polarisasjonskontroll), mekaniske (som superhydrofobe, selvrensende) og elektriske (som fleksible elektroder, sensorer) egenskaper. Det støtter banebrytende forskning innen felt som materialvitenskap og grensesnittteknikk.
    bilde

    Direkte skriving av optisk bølgeleder: Produksjon av mikrofluidiske brikker

    ❑Lager 3D optiske banestrukturer inne i transparente materialer som glass og krystaller. Egnet for forskning og utvikling av fotoniske integrerte brikker og optiske fibersensorer, samt presisjonsprosessering av mikrokanaler, miksere og reaksjonskamre i mikrofluidiske systemer.
    bilde

    Skriving av linjebreddegitter i nanoskala

    ❑Utvikler neste generasjons optiske instrumenter (som spektrometre, gittersensorer) og informasjonslagringsenheter (som nanoskala-lagringsenheter). Realiserer høypresisjonsskriving av nanoskala linjebreddegitter, og bryter gjennom oppløsningsgrensen til tradisjonelle prosesseringsteknologier.
    bilde

    Høypresisjons spalte-/membranbehandling

    ❑Leverer høypresisjonsspalte- og membrankomponenter for optiske systemer (som litografimaskiner, mikroskoper) og presisjonsinstrumenter (som partikkeldetektorer), noe som sikrer ytelsesstabilitet og presisjonskonsistens til optiske enheter.

    Tekniske spesifikasjoner

    Punkt

    Detaljer

    Laser

    Femtosekundlaser (1030/515/343 nm)

    Behandlingsområde

    500 mm × 500 mm

    30 mm × 30 mm

    Posisjoneringsnøyaktighet (X/Y/Z)

    Bearbeidbare materialtyper

    Plane, sylindriske, sfæriske, 3D-buede overflater, etc., tilpassbar kombinasjon

    Behandler innhold

    Dybdekontrollert etsing, karbonfri skjæring, gjennomgående hullboring, nanoproduksjon, etc.
    tilpassbar kombinasjon

    Minimum hulldiameter

    ≥500nm, kan tilpasses etter behov

    Minimum prosesseringsbar linjebredde

    ≥300nm, kan tilpasses etter behov

    Område for prosesserbart hulldiameter

    ≥200nm, tilpassbar etter behov

    Hulldiameterpresisjon

    ≥±50nm, kan tilpasses etter behov

    Eksempler på applikasjoner

    15 μm massespektrometer 0-konisk spalteskjæring

    15 μm massespektrometer 0-konisk spalteskjæring

    MONO Grating Direkte Skriving

    MONO-rist direkte skriving: linjebredde 0,449 μm

    For mikrofluidiske brikker (Lab-on-a-Chip) etser ML-NEBULA-utstyret vårt ikke bare kanaler på glassoverflater, men støtter også laserdirekte skriving (

    MONO mikrofluidisk chip mikrokanaletsning

    Mono submikronboring

    Mono submikronboring: 148 nm hull

    01

    contact us

    Start a Conversation

    Ready to solve your precision challenges? Fill out the form below and our team will respond within 24 hours.

    Contact information

    Address

    F1-F2, Building 4, Jianfa-Xinmei Industrial Park, No. 21 Gongtang Road, Guangming District, Shenzhen, China.

    1647831b1f9f653d5ce88b0294a12170
    yx-contact-bg